實(shí)驗(yàn)室盤式砂磨機(jī)-寧波砂磨機(jī)-東研砂磨機(jī)

影響研磨機(jī)工作效率的因素有哪些
影響研磨機(jī)工作效率的因素有哪些研磨機(jī)是工件提*、平整度的重要途徑之一，在led藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、硅片、導(dǎo)光板等應(yīng)用廣泛。大家都知道，效率是企業(yè)運(yùn)轉(zhuǎn)的必要支撐，那么研磨機(jī)的工作效率和哪些因素有關(guān)呢？首先是研磨機(jī)的研磨壓力，研磨壓力大則切削量也變大，自然而然研磨機(jī)的工作效率有所提高。其次，研磨機(jī)的工作效率也關(guān)乎到研磨速度，毫無疑問，研磨速度越快，研磨的效率就越高。不過建議研磨速度適當(dāng)而行，研磨速度過快會(huì)使產(chǎn)生的切削熱量過大，從而造成工件變形。后，工件壁厚的均勻度也會(huì)影響研磨機(jī)的工作效率。由于工件壁厚不均勻，在研磨加工過程中要特別控制速度，進(jìn)而研磨機(jī)的工作效率就會(huì)受到影響。
陶瓷研磨機(jī)的種類知識(shí)分享
陶瓷研磨機(jī)的種類知識(shí)分享陶瓷分為很多種，有氧化鋁、氧化鋯、氮化硼，氮化鋁等。不同的材料有著各自的物理特性，在工業(yè)生產(chǎn)中運(yùn)用在不同的行業(yè)和產(chǎn)品。用于陶瓷研磨和拋光的陶瓷研磨機(jī)也分為很多種，一般按照研磨面分為：陶瓷平面研磨機(jī)，陶瓷外圓磨拋機(jī)，陶瓷雙面研磨機(jī)。磨平面的陶瓷研磨機(jī)一般針對(duì)的是氧化鋯和氧化鋁兩種陶瓷材料，一般運(yùn)用于手機(jī)蓋板，*模組，密封環(huán)，閥片等液壓行業(yè)；這種平面陶瓷研磨機(jī)能將手機(jī)蓋板研磨至鏡面效果，也能讓陶瓷*模組的表面平面度達(dá)到1u，粗超度0.2nm，是超高精密的一種研磨設(shè)備。磨外圓的陶瓷研磨機(jī)一般針對(duì)的是氧化鋯這種材料，一般是用在陶瓷插芯這種產(chǎn)品上，用于光纖通訊行業(yè)。該種外圓磨拋設(shè)備研磨氧化鋯陶瓷插芯后圓柱度可控制在0.0005mm以內(nèi)。而氮化硼是一種更為*的材料，目前在工業(yè)上是非常炙手可熱的，由于它是現(xiàn)今被認(rèn)知的硬的一種晶體，耐高溫，，是耐火材料，也是絕緣材料，所以對(duì)工業(yè)生產(chǎn)來說它的出現(xiàn)給人帶來了驚喜。氮化硼一般用作高科技產(chǎn)品較多，比如航空航天上發(fā)動(dòng)機(jī)的噴口，原子反應(yīng)堆結(jié)構(gòu)材料，散熱部件等。在研磨行業(yè)，氮化硼一般用來制作粗磨藍(lán)寶石，氮化鋁陶瓷的研磨盤。用氮化硼制作的磨盤硬度高，不易磨損，磨削速度快，耐高溫，對(duì)所磨材料也不會(huì)造成損傷，所以是一種的研磨材料。
工件的大小對(duì)研磨難度的影響由于大工件在研磨時(shí)，所磨的面積比小工件要大很多，所以選擇的研磨盤，壓重塊等肯定也是要大很多的。大面積的工件在固定和加壓時(shí)，如果稍微有一點(diǎn)點(diǎn)受力不均勻，所受到的張力也就越大，容易產(chǎn)生斷裂。而小工件，這種壓力點(diǎn)不均勻的概率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于大尺寸工件，并且小工件平放受壓時(shí)所受張力沒那么大，不容易碎。其次，我們進(jìn)行對(duì)比論證：400mm直徑的工件和30mm直徑的工件同時(shí)放在研磨拋光機(jī)上進(jìn)行研磨，面積小的比面積大的受力均勻，切削速度也要快一倍。而面積大的工件，磨削過程中由于受力面廣，效果不均勻的概率要大，所以更加難以實(shí)現(xiàn)效果。后，我們舉一個(gè)實(shí)際的例子來進(jìn)行后說明：我們從實(shí)驗(yàn)室拿兩塊厚度均等的硅片來做實(shí)驗(yàn)，硅片1，直徑500mm厚度1mm，硅片2，直徑20mm，厚度1mm，將他們同時(shí)放到13-6b雙面研磨機(jī)上進(jìn)行研磨。要求效果：平面度2u,平行度：2u，鏡面效果。開啟設(shè)備后，采用相同的研磨耗材對(duì)兩塊工件同時(shí)研磨，在研磨10分鐘后，硅片1，表面三項(xiàng)指標(biāo)均為達(dá)到；硅片2，達(dá)到。由此三點(diǎn)，我們得出大小工件研磨難度有著很大差異性。在研磨要求均等的情況下，大工件較難實(shí)現(xiàn)一些，且所花的時(shí)間更長一些。而小工件則較易實(shí)現(xiàn)，研磨效率也要高于大尺寸工件。